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本发明涉及一种真空镀膜腔和真空镀膜设备。该真空镀膜腔包括真空腔体和冷却腔体，冷却腔体环绕真空腔体的周侧设置，且冷却腔体与真空腔体互不连通，真空腔体包括多个分隔件，多个分隔件间隔设置于冷却腔体内，并将冷却腔体分隔成多个流道，多个流道依次连通以形成冷却通道，冷却腔体设置有进液口和出液口，冷却通道的一端与进液口连通，冷却通道的另一端与出液口连通。冷却介质可以沿冷却流道分布在冷却腔体真空镀膜腔内，减少冷却介质分布不均匀而导致真空镀膜腔表面温度差异性较大的问题，从而提高真空镀膜的质量。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 114875381 B
(45)授权公告日 2023.03.31
(21)申请号 202210532592.6 C23C 16/46 (2006.01)
(22)申请日 2022.05
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