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一种曝光装置以及曝光方法.pdfVIP

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  • 2023-05-19 发布于四川
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一种曝光装置以及曝光方法.pdf

    本申请公开了一种曝光装置以及曝光方法，曝光装置包括：曝光机台；曝光光源，曝光光源与曝光机台相对设置；其中，曝光机台靠近曝光光源的一侧表面为曝光台面，用于放置待曝光板件；曝光台面上设置有补光层。本申请通过在曝光机台靠近曝光光源的曝光台面上设置补光层，能够在曝光光源自上而下照射待曝光板件和补光层时，使补光层透过待曝光板件的靶标通孔从下至上发光，从而增加了靶标通孔的轮廓清晰度，继而提高了对靶标的识别精度以及降低了拒曝光率。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114895530 A (43)申请公布日 2022.08.12 (21)申请号 202210400131.3 (22)申请日 2022.04.15 (71)申请人 广州广芯封装基板有限公司 地址 5

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