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激光退火装置使CW激光相对于非晶硅膜沿固定方向进行相对移动,使非晶硅膜进行横向晶体生长来形成晶化硅膜,其中,光学系统具备:光束整形部,其将CW激光整形为形成聚光环的激光束;以及光束分割部,其具有反射面,该反射面将整形后的环状的激光束分割并反射来生成半环状的激光束,激光退火装置以使半环状的激光束的外周缘朝向激光束的相对移动方向的方式,将半环状的激光束向非晶硅膜的被照射面照射。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114902376 A
(43)申请公布日 2022.08.12
(21)申请号 202080090760.X (74)专利代理机构 北京同达信恒知识产权代理
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