用于RF腔室的改进阳极-阴极比例的设备.pdfVIP

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2023-05-20 发布于北京
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用于RF腔室的改进阳极-阴极比例的设备.pdf

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本文提供了用于在等离子体处理腔室中使用的处理套件的实施方式。在一些实施方式中，一种用于在处理腔室中使用的处理套件包括：环形主体，该环形主体具有上部部分和从上部部分向下并径向向内延伸的下部部分，其中环形主体包括内表面，该内表面具有向下延伸的第一区段、从第一区段径向向外延伸的第二区段、从第二区段向下延伸的第三区段、从第三区段径向向外延伸的第四区段、从第四区段向下延伸的第五区段、从第五区段径向向内延伸的第六区段、从第六区段向下延伸的第七区段、及从第七区段径向向内延伸的第八区段。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114930492 A (43)申请公布日 2022.08.19 (21)申请号 202180008382.0 斯里尼瓦萨 ·拉奥 ·耶德拉　