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本申请的发明所涉及的半导体晶圆具备:SiC基板,其具有上表面和作为与上表面相反侧的面的背面;和杂质注入层,其设置于SiC基板的背面整体,由与SiC基板相同的母材形成,包含杂质,且可见光或者红外光的透过率比SiC基板小。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114930498 A
(43)申请公布日 2022.08.19
(21)申请号 202080092311.9 (51)Int.Cl.
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