衬底偏压对磁控溅射制备WO3薄膜的影响研究.docxVIP

PAGEIII 衬底偏压对磁控溅射制备WO3薄膜的影响研究 摘 要：本文用磁控溅射法制备了WO3薄膜,对它的形貌、光透过率、台阶厚度、禁带宽度、晶体结构等进行研究,阐述了磁控溅射法制备WO3薄膜的原理、要求、方法,影响因素。本文介绍了磁控溅射法制备WO3薄膜所需的物品、仪器、实验步骤,分别用金相显微镜、紫外可见分光光度计、探针式轮廓仪、X射线衍射仪等表征测试用。金相显微镜观察结果可知：衬底偏压绝对值越大,其样品晶粒越大,轮廓越清晰,但更稀疏,缺陷多。透光率测验结果可知：衬底偏压绝对值越大,透过率越高,禁带宽度越大,禁带宽度为3.4eV左右。轮廓仪测量可知,衬底偏压越大,所制薄膜厚度越大。X