一种高纯高致密碳化硅陶瓷及其制造方法.pdfVIP

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  • 2023-05-23 发布于四川
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一种高纯高致密碳化硅陶瓷及其制造方法.pdf

本发明公开了一种高纯高致密碳化硅陶瓷及其制造方法,采用不同粒度的碳化硅陶瓷粉体为主要原料,利用石墨粉和纳米炭黑为结合剂,树脂为粘结剂,采用喷雾造粒工艺均匀混合,通过干压成型、等静压成型或者浇注成型等多种成型方法得到陶瓷素胚,坯体经过干燥、固化后,采用第一次高温纯化热处理,第二次反应渗硅热处理,最后经过表面处理,获得高纯高致密碳化硅陶瓷。采用该工艺制造的碳化硅陶瓷纯度高,各种金属杂质含量低于200ppm,材料的致密度达99%以上,能够广泛应用于纯度和强度要求高的光伏、LED或者半导体应用领域。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112159232 A (43)申请公布日 2021.01.01 (21)申请号 202011051209.2 (22)申请日 2020.09.29 (71)申请人 南通三责精密陶瓷有限公司

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