EUV光源靶量测.pdfVIP

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  • 2023-05-23 发布于四川
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公开了用于将由靶材料组成的靶与调节射束对准的设备和方法,调节射束被提供用于通过改变靶的形状、质量分布等来调节靶,其中调节射束包括传播模式的非均匀分布(诸如跨靶的空间模式的偏振模式)形式的结构化光。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116134971 A (43)申请公布日 2023.05.16 (21)申请号 202180058926.4 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所

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