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- 2023-05-24 发布于四川
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本发明涉及一种用于制造光电子器件的方法,包括如下方法步骤:A)提供半导体芯片(1),所述半导体芯片具有有源区(11),所述有源区设计用于发射辐射,B)将种晶层(4)施加到半导体芯片(1)上,其中种晶层(4)具有第一金属和与第一金属不同的第二金属,其中第二金属不如第一金属贵重,C)将结构化的光刻胶层(9)直接施加到种晶层(4)上,以及D)将焊料层(10)至少施加到种晶层(4)的未被光刻胶层(9)覆盖的区域上,其中在种晶层(4)中第一金属与第二金属的比例在95:5至99:1之间。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 110476259 A
(43)申请公布日
2019.11.19
(21)申请号 20188
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