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- 2023-05-24 发布于四川
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本发明属于半导体制作方法技术领域。本发明提出一种光罩、光罩的制作方法及使用该光罩的图案形成方法，该光罩包括：基板；线条图案，其间隔形成于基板之上；基板具有透光区域，透光区域位于每两个相邻的线条图案之间；透光区域具有靠近其中一线条图案的第一侧，和靠近另一线条图案的第二侧；透光区域包括：第一相位移区域，其位于透光区域第一侧；第二相位移区域，其位于透光区域第二侧；其中，第一相位移区域和第二相位移区域的相位差为180°。入射光透过该光罩，在图形边缘的光具有不同的相位，两种相位的光叠加之后产生，光强度趋近
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115981094 A
(43)申请公布日 2023.04.18
(21)申请号 202310272742.9
(22)申请日 2023.03.21
(71)申请人 青岛物元技术有限公司
地址 26
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