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本发明公开了一种用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂及其制备方法，该用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂包括以下组分：纳米二氧化锆40～70份；改性聚硅氧烷10～30份；长链烷基聚硅氧烷20～50份。本发明还公开了一种耐刮擦PMMA复合材料。该耐刮擦剂可有效改善PMMA表面的耐刮擦性能，且长效稳定性高，使制件保持长久优异的表面光泽度，另外可以有效提高PMMA的脱模等其他综合性能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112175393 A
(43)申请公布日 2021.01.05
(21)申请号 202011081860.4 C08L 33/12 (2006.01)
(22)申请日 2
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