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本发明提供一种基片热处理装置、基片热处理方法和存储介质。基片热处理装置包括：能够对形成有覆膜的基片进行支承和加热的加热部；将所述加热部上的处理空间与外部空间隔开的腔室；外周排气部，其在比所述基片的周缘靠外侧的位置具有朝向所述处理空间内的开口，以将所述处理空间内的气体排出；和排气控制部，其伴随所述加热部对所述基片的加热时间的经过，而增加所述外周排气部所排出的所述气体的排出量。根据本发明，能够有效地兼顾热处理对象的覆膜的膜厚均匀性和由热处理所产生的升华物的回收的可靠性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112180695 A
(43)申请公布日
2021.01.05
(21)申请号 20201
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