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本发明揭示用于检验半导体样本的设备及方法。由可操作以获取光学图像的光学检验器提供对应于半导体样本上的候选缺陷事件的位置，此类候选缺陷事件是在其对应位置处跨所述样本从所述光学图像检测到。从所述候选缺陷事件的高分辨率检验器在所述样本上的所述候选缺陷事件的对应位置处获取高分辨率图像。使已从一组所述经获取高分辨率图像建模的一组经建模光学图像中的每一者与一组所述经获取光学图像中的对应者相关，以将所述一组高分辨率图像中所展示的表面噪声事件识别为所述一组经获取光学图像中的对应候选事件的来源。否则，将次表面事件
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112219111 A
(43)申请公布日 2021.01.12
(21)申请号 201980036889.X (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限
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