原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
一种半导体外延结构及其形成方法，所述半导体外延结构包括：成核层配置在基板上；缓冲层配置在成核层上；半导体层配置在缓冲层上；阻障层配置在半导体层上；以及顶盖层配置在阻障层上。在半导体外延结构的翘曲率小于等于+/‑30微米的情况下，半导体层的厚度与缓冲层的厚度的比值的最大值或最小值以下列式子表示：Y＝aX1‑bX2+cX3，X1≧0nm，X2≧750nm，X3≧515nm，其中X1为成核层的厚度，X2为缓冲层的厚度，X3为半导体层的厚度，a、b、c分别为常数，Y为半导体层的厚度与缓冲层的厚度的比值(
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112242435 A
(43)申请公布日
2021.01.19
(21)申请号 20201
文档评论（0）