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本发明提供一种硅片检测方法。硅片检测方法包括:提供一待检测硅片;在待检测硅片的待检测表面设置承载片,获得由待检测硅片和承载片叠加形成的组合硅片,承载片覆盖待检测表面,组合硅片具有与待检测表面平行的第一表面和第二表面;研磨组合硅片,以在组合硅片上形成检测平面,检测平面由第一表面延伸至第二表面,检测平面与待检测表面之间的第一夹角大于0度且小于90度;检测检测平面上的损伤尺寸;根据损伤尺寸和第一夹角计算待检测表面的损伤深度。本发明实施例有助于提高对于硅片损伤深度的检测精度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112289700 A
(43)申请公布日 2021.01.29
(21)申请号 202011420756.3
(22)申请日 2020.12.08
(71)申请人 西安奕斯伟硅片技术有限公司
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