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本发明提供一种针对由装置处理的衬底来确定采样控制方案和/或处理控制的方法。所述方法使用指纹模型和演化模型来产生所述控制方案。所述指纹模型基于针对由装置处理的至少一个衬底的处理参数的指纹数据，并且所述演化模型表示所述指纹数据随时间的变化。分析所述指纹模型和所述演化模型，并且使用所述分析来产生针对所述装置的控制方案。所述采样控制方案提供待在何处和何时对由所述装置处理的衬底进行测量的指示。所述处理控制方案提供如何控制所述衬底的所述处理的指示。本发明也提供一种确定多个装置中的哪个装置对处理参数的指纹做出
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112272796 A
(43)申请公布日 2021.01.26
(21)申请号 201980038187.5 S ·罗伊 张祎晨 A ·卡瓦利
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