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本发明公开一种真空镀膜装置,涉及真空镀膜技术领域,包括真空罐以及设在真空罐内腔顶部用于轰击金属的金属离子轰击仓,设在真空罐内部用于装夹工件的转动支架,真空罐内沿所述真空罐轴线方向阵列分布多个转动支架,转动支架可拆卸式安装在转轴跟随转轴转动,固定板与滑动支架可拆卸固定连接;转动支架端面径向阵列分布设置多个转动的转动支座,沿所述转动支架径向方向相邻转动支座之间设有可转动的第一驱动轮,第一驱动轮内外两侧径向相邻的第一驱动轮均与转动支座啮合连接;转动支架外圆周外侧设有内齿轮,内齿轮与设置在所述转动支架最
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112267102 A
(43)申请公布日 2021.01.26
(21)申请号 202011164127.9
(22)申请日 2020.10.27
(71)申请人 李县内
地址 363
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