反应腔室.pdfVIP

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  • 2023-05-28 发布于四川
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一种反应腔室,包括反应石英管(22)、衬管(25)和进气弥散管(28);其中,衬管(25)设于反应石英管(22)内,用于容纳硅片(27),进气弥散管(28)通过设于衬管(25)端部的进气孔(251)插设于衬管(25)内,进气弥散管(28)的至少一端用于连接至气源,进气弥散管(28)的管壁上设有多个出气孔(288)。该反应腔室有利于工艺气体在衬管内均匀分布,提高衬管内部的工艺均匀性。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 110527987 A (43)申请公布日 2019.12.03 (21)申请号 20181

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