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- 2023-05-28 发布于四川
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本发明提供了一种掩膜版及其制作方法、显示基板及其制作方法,涉及显示技术领域,该掩膜版能够大幅减轻灰尘造成的影响,从而提升产品良率。一种掩膜版,包括掩膜部和围绕所述掩膜部的周边部;其中,所述掩膜部包括至少一个掩膜单元,所述掩膜单元包括开口和围绕所述开口的第一本体;所述周边部中至少部分区域的厚度大于所述掩膜部的厚度,且被配置为与待成膜基板相接触,并支撑所述待成膜基板,使得所述掩膜部与所述待成膜基板之间具有间隙。本发明适用于掩膜版的制作。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112376015 A
(43)申请公布日 2021.02.19
(21)申请号 202011243457.7
(22)申请日 2020.11.09
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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