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本发明涉及生产监控技术领域，公开了一种基于Wincc的CVD炉生产监控系统，用于实时监测并修改调整生产数据并且可以追溯历史生产数据。所述系统包括：上位机、下位机和检测装置；上位机用于：对CVD炉的设备和参数进行监控和管理；以及读取CVD炉的生产数据，并将生产数据传输至下位机；检测装置用于：采集CVD炉的参数信号，并根据参数信号检测CVD炉的实际参数值；以及将实际参数值传输至下位机；下位机用于：根据生产数据控制CVD炉，并将生产数据对应的参数信号传输至上位机；以及接收实际参数值，并对实际参数值和预
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115826543 A
(43)申请公布日 2023.03.21
(21)申请号 202310125926.2
(22)申请日 2023.02.17
(71)申请人 广州志橙半导体有限公司
地址 51
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