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- 2023-05-29 发布于四川
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本发明涉及一种具有偏移沟槽的抛光垫,包括抛光层,所述抛光层表面设置有同心圆沟槽和径向沟槽,所述同心圆沟槽的圆心偏置设于所述抛光垫的圆心的一旁,所述同心圆沟槽包括位于中央的无沟槽区域和包围无沟槽区域的环形槽,所述径向沟槽分布于所述无沟槽区域的边缘和所述抛光垫的圆周边缘之间。与现有技术相比,本发明在进行抛光作业时,无沟槽区域会和晶圆片的边缘接触,从而减小晶圆片边缘区域的抛光液流量,避免晶圆片边缘区域过度磨损,提高晶圆片抛光后的平坦度。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115816292 A
(43)申请公布日 2023.03.21
(21)申请号 202211411039.3
(22)申请日 2022.11.11
(71)申请人 上海芯谦集成电路有限公司
地址 2
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