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本申请提供适用于JBX光刻机的图案修正方法、装置、介质、及系统，所述方法包括：获取设计图案的设计尺寸数据和所述设计图案在经JBX光刻机进行光掩模制作处理后所获得的光掩模图案的关键尺寸数据；建立用于描述所述设计尺寸数据和测量尺寸数据间关系的拟合模型；根据所述设计尺寸数据与测量尺寸数据之间的差异数据对所述设计尺寸数据做反向修正，以使尺寸数据修正后的设计图案在经所述JBX光刻机处理后所获得的光掩模图案与尺寸数据修正前的设计图案一致。本申请提供一种使用光掩模曝光图案修正的技术来抵消JBX光刻机误差的技术
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112433443 A
(43)申请公布日
2021.03.02
(21)申请号 20191
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