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本发明涉及一种改进型光学薄膜应力及其制备方式，所述该改进型光学薄膜应力及其制备方式是将薄膜基片放入真空镀膜机室内在290℃温度下烘烤100min，且薄膜基片上的膜厚度在蒸镀制至5000纳米厚时暂停蒸镀20分钟，然后再蒸镀至5000纳米厚度时暂停蒸镀20分钟，直至膜蒸镀结束。本发明方案的优点在于将薄膜基片高温烘烤消除应力，大大提高与镀膜之间的牢固性，同时分层厚度镀膜方式有效消除镀膜内的应力，大大减少光学薄膜的应力，提高产品质量等，从而有效解决了对现有技术中提出的问题和不足。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112410746 A
(43)申请公布日 2021.02.26
(21)申请号 202011462311.1
(22)申请日 2020.12.14
(71)申请人 苏州苏克新型材料有限公司
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