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- 2023-05-29 发布于四川
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本发明属于功率LDMOS器件领域,提供一种采用全环绕电荷补偿的SOI‑LDMOS器件,用以改善器件击穿电压和比导通电阻之间的矛盾关系,提升SOI‑LDMOS的Baliga优值,同时提高器件的抗电荷偏离能力,提升鲁棒性。本发明中HK层和鳍状P型变掺杂区对鳍状N型漂移区构成全环绕的电荷补偿;P型变掺杂区与N型漂移区彼此耗尽,在纵向上形成变化的电场分布,降低器件表面电场强度,构成双重RESURF,且提高器件耐压特性;同时,HK层对N型漂移区构成三面的电荷补偿,使N型漂移区表面得到增强RESURF效应,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115832050 A
(43)申请公布日 2023.03.21
(21)申请号 202211436755.7
(22)申请日 2022.11.16
(71)申请人 电子科技大学
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