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本发明提供了一种第一芯片与晶圆键合方法、芯片堆叠结构,包括:提供第一层第一芯片,第一芯片包括第一金属层;提供晶圆,所述晶圆包括第二金属层;将第一芯片与晶圆键合;形成绝缘层和开孔,所述绝缘层覆盖第一芯片周侧的晶圆或填充若干第一芯片在晶圆上的间隙;在第一芯片外围的绝缘层内形成开孔,互连结构位于开孔中,第一金属层、第二金属层和互连结构三者电连接,实现第一芯片与晶圆的电性连接。无需在第一芯片内部制作TSV,降低了第一芯片内部连线的设计难度,节省了第一芯片面积。无TSV结构,避免了衬底和TSV间的电性(如
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112397377 A
(43)申请公布日 2021.02.23
(21)申请号 202011281397.8
(22)申请日 2020.11.16
(71)申请人 武汉新芯集成电路制造有限公司
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