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本发明公开了一种无形变膜层的制备方法,其步骤如下:(1)、用1‑2mm厚度的平板玻璃,此批样件后并采用蒸发镀膜方式镀制同等厚度膜层;(2)、镀制过程中采用多种张应力以及压应力的膜料进行混合膜系结构设计,达到应力补偿的目的;(3)、样件采用以上膜系设计并通过蒸发镀膜的方式进行镀膜,镀膜后样件膜层面形与基底面形进行比对,确定牛顿环数量,如有差距调整膜系结构进行复镀。本发明通过事实论证,该制备方法可以实现镀膜前后基底无形变,成本低,可行性强,同时对于特殊形状无法采用传统面形补偿工艺的产品,应用前景非常
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112442663 A
(43)申请公布日 2021.03.05
(21)申请号 202011062969.3 C23C 14/18 (2006.01)
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