光学邻近校正(OPC)方法以及使用OPC方法制造掩模的方法.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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光学邻近校正(OPC)方法以及使用OPC方法制造掩模的方法.pdf

一种光学邻近校正方法包括:提取掩模上的图案的布局的边缘,边缘包括该布局的作为曲线边缘的至少一个边缘;以及通过对所提取的布局的边缘应用边缘滤镜来生成图案的光学图像,该边缘滤镜包括与曲线边缘的角度对应的任意角度滤镜。可使用源扇区旋转来生成任意角度滤镜以与曲线边缘的角度对应。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112462570 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 202010818384.3 (22)申请日 2020.08.14 (30)优先权数据 10-2019-0

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