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基片处理装置和基片处理方法.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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基片处理装置和基片处理方法.pdf

    本发明提供一种对基片进行处理的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：能够在上表面载置基片并对所载置的该基片进行加热的载置台；构成为能够从上述载置台的上表面伸出或没入该上表面，并且能够支承基片的基片支承销；和光照射机构，其对载置于上述载置台的上表面的基片中的与上述基片支承销的伸出或没入位置对应的特定的部分照射光，以对该特定的部分进行加热。根据本发明，在用载置台来对载置于基片支承销所伸出或没入的载置台的上表面的基片进行加热的情况下，能够改善基片的温度的面内均匀性。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112466776 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 202010876608.6 (22)申请日 2020.08.27 (30)优先权数据 2019-1628

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