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等离子体处理装置及处理基板的方法.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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等离子体处理装置及处理基板的方法.pdf

    本发明所公开的一种等离子体处理装置具备腔室、基板支撑器、等离子体生成部以及第1和第2电磁铁组件。基板支撑器配置于腔室内。基板支撑器上的基板的中心位于腔室的中心轴线上。等离子体生成部构成为在腔室内生成等离子体。第1电磁铁组件构成为包括一个以上的第1环状线圈，且配置于腔室上或其上方，并且在腔室内生成第1磁场。第2电磁铁组件构成为包括一个以上的第2环状线圈，且在腔室内生成第2磁场。第2磁场在基板支撑器上的基板的中心降低第1磁场的强度。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112466734 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 202010876613.7 (22)申请日 2020.08.27 (30)优先权数据

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