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- 2023-05-30 发布于四川
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本发明提供一种光刻制程的方法及其板材定位装置,其中该承载平台的定位座板系先吸附预设板材形成定位后,再利用抵持阶板吸附底片光罩,使底片光罩可贴合于预设板材的上方表面,再通过曝光模块照射曝光,将底片光罩上的图案成型于预设板材的表面,使进行后续曝光处理作业时不会产生斜光,达到供预设板材密合定位于底片光罩表面,以解决曝光处理作业时成型效果不佳的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112462575 A
(43)申请公布日
2021.03.09
(21)申请号 20191
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