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本发明涉及一种用于确定微光刻光学系统中的光学元件的加热状态的方法和设备，其中使用至少一个非接触传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)，所述至少一个非接触传感器基于从所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)接收电磁辐射，并且其中，由所述传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)捕获的辐射范围变化，以确定所述光学元件中的温度分布。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112513739 A
(43)申请公布日 2021.03.16
(21)申请号 201980049199.8 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所
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