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本发明公开并提供了一种表面平整光滑的平滑釉面砖及其生产工艺。本发明中的平滑釉面砖，包括砖体，所述砖体外依次施喷有高温底釉以及面釉，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石37%‑50%，硅酸锆1%‑8%，高岭土10%‑15%，石英13%‑18%，烧滑石1%‑5%，黑泥粉10%‑13%，氧化铝3%‑8%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石40%‑55%，方解石18%‑25%，烧滑石7%‑13%，硅酸锆5%‑17%，石英1%‑10%，黑泥粉8%‑10%，氧化铝1%‑5%。本发明适用于平滑釉
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112479588 A
(43)申请公布日 2021.03.12
(21)申请号 202011609613.7
(22)申请日 2020.12.31
(71)申请人 湖南旭日陶瓷有限公司
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