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化学机械研磨工艺的研磨头清洗方法.pdfVIP

化学机械研磨工艺的研磨头清洗方法.pdf

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    本发明涉及化学机械研磨工艺的研磨头清洗方法，包括S1：在初始状态下研磨头压向一外部装置，使外部装置与研磨头形成一封闭的腔体；S2：将研磨头抬起，使腔体与外界大气压相通，而使台阶处的膜片区域向远离固定腔体装置的方向下耷，提供清洗装置，清洗装置喷出清洗液对研磨头进行清洗；S3：对腔体进行抽真空，使台阶处的膜片区域向靠近固定腔体装置的方向上移，清洗装置喷出清洗液继续对研磨头进行清洗；停止抽真空，使台阶处的膜片区域再次向远离固定腔体装置的方向下耷，清洗装置喷出清洗液继续对研磨头进行清洗，多次重复该操作直

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112476231 B (45)授权公告日 2022.07.19 (21)申请号 202011345481.1 B24B 37/34 (2012.01)

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