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结异质结的教案;内容;半导体异质结?;半导体异质结的发展历史;半导体异质结的分类;内容;突变型异质结的能带结构;平衡时,两块半导体有统一的费米能级
因而异质结处于热平衡状态。两块半导体材料交界面的两端形成了空间电荷区。n型半导体一边为正空间电荷区,p型半导体一边为负空间电荷区。正负空间电荷间产生电场,也称为内建电场,因为电场存在,电子在空间电荷区中各点有附加电势能,
1.能带发生了弯曲。
2.能带在交界面处不连续,有一个突变;则能带总的弯曲量就是真空电子能级的弯曲量即
显然
两种半导体的导带底在交界面的处突变 为(导带阶)
而价带顶的突变(价带阶)
而且
式(9-4)、式(9-5)和式(9-6)对所有突变异质结普遍适用。
;p-n-Ge-GaAs异质结的能带图;突变np异质结的能带图;突变nn异质结;突变pp异质结;异质结界面,晶格常数较小的半导体存在一部分的不饱和键,称为悬挂键;悬挂键产生了界面态;
悬挂键密度为界面两端键密度之差:;;晶格失配引入悬挂键;;第18页/共48页;表面能级的作用;考虑表面能级的作用时的能级图;考虑表面能级的作用时的能级图;内容;突变异质结的势垒高度和; 势垒区总宽度为
势垒区内的正负电荷总量相等,即
式(9-13)可以化简为
设V(x)代表势垒区中x电的电势,则突变反型异质结交界面两边的泊松方程分别为:; 由式(9-12)(9-14)得
将上述两式代入(9-30)得
从而算得势垒区宽度XD为; 交VD1与VD2之比为
以上是在没有外加电压的情况下,突变反型异质结处于热平衡状态时得到的一些公式。若在异质结上施加外加电压V。可以得到异质结处于非平衡状态时的一系列公式:;半导体异质pn结的电流电压特性及注入特性; 根据上述,低尖峰势垒情形是异质结的电子流主要由扩散机制决定,可用扩散模型处理,如图9.11中图a和图b分别表示其零偏压时和正偏压时的能带图。p型半导体中少数载流子浓度n10与n型半导体中多数载流子浓度的关系为:
取交界面x=0,当异质结加正
向偏压V时; 在稳定情况下,p型半导体中注入少数载流子运动的连续性方程为
其通解为
从而求得电子扩散电流密度; 上式为由n型区注入p型区的电子扩散电流密度,以下计算由p型区注入n型区的空穴电流密度。从p区价带顶的空穴势垒高度为
在热平衡时n型半导体中少数载流子空穴的浓度与p型半导体中的空穴浓度关系
正向电压V时在n区x=x2处的空穴浓度增加为;
从而求得空穴扩散电流密度、
由(9-62)(9-65)可得外加电压,通过异质pn结的总电流为;异质pn(扩散)结
同质pn结:;内容;异质结的一些特性和应用;;异质pn结的注入特性; 以宽禁带n型 和窄禁带p型GaAs组成的pn结为例,其禁带宽度之差 ,设p区掺杂浓度为 ,n区掺杂浓度为 由上式可得
这表明即使禁带宽n区掺杂浓度较p区低近两个数量级,但注入比仍可高达 ,异质pn结的这一高注入特性是区别于同质pn结的主要特点之一,也因此得到重要应用。
;超注入现象;应用:半导体异质结激光器;应用:二维电子气;应用:HEMT(高电子迁移率晶体管);量子霍尔效应;半导体超晶格;实现:分子束外延;能带工程;;共振隧穿的原理;负微分电阻;
特点:速度快(渡越时间~10-14s,2.5THz,)
共振隧穿二极管;感谢观看!
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