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本发明涉及一种悬桥结构热电堆器件的制作方法。制作方法:在半导体衬底的正面依次沉积多层隔离材料,形成堆叠隔离层;在堆叠隔离层表面形成多晶硅层,然后光刻图形化,得到多个多晶硅热电偶;在热电偶上方沉积氧化硅膜,并光刻图形化,形成电极接触孔;在电极接触孔内沉积导电金属,并图形化,然后在金属上方覆盖红外吸收层,之后图形化刻蚀至半导体衬底,打通正面悬桥;在半导体衬底的正面方向的表面上形成保护层,然后在半导体衬底的背面沉积氧化硅作为掩膜层,对半导体衬底进行选择性刻蚀,刻蚀至穿透半导体衬底,形成背腔;去除保护层
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112563402 A
(43)申请公布日 2021.03.26
(21)申请号 202011262952.2
(22)申请日 2020.11.12
(71)申请人 中国科学院微电子研究所
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