原子层沉积设备与制程方法.pdfVIP

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2023-06-01 发布于四川
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原子层沉积设备与制程方法.pdf

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本发明提供原子层沉积设备与制程方法。原子层沉积设备包括腔体、加热台、载盘、中空部件、底部抽气口与喷头组件，其中载盘位于加热台的顶表面并用以承载基材，而载盘与中空部件可形成上抽气路径。透过上抽气路径缓慢地抽离制程流体(例如，前驱物)，可使制程流体的流场被稳定地调控，进而使原子层沉积制程中的基材可受前驱物均匀地沉积。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112522682 B (45)授权公告日 2022.05.27 (21)申请号 202011210989.0 C23C 16/44 (2006.01)