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本发明提供了一种半导体陶瓷表面有机沉积物去除设备，其结构包括支撑架、支撑杆、顶杆、打磨盆、驱动机构，支撑架下端焊接固定于支撑杆上端，顶杆下端通过螺钉固定于支撑架上端，打磨盆下端外壁通过卡扣固定于支撑架内部上端，驱动机构上端活动卡合于支撑架下端，本发明通过将原有的打磨方式转变为在打磨盆内部填充活性炭等颗粒，并通过驱动机构的运转，使打磨盆内部的活性炭颗粒进行旋转，通过活性炭的旋转对陶瓷表面的旋转打磨，从而清除陶瓷表面所凝结的杂质，并且还可通过震动轴的不断震动，使活性炭的活动轨迹得到延展提升，从而对陶
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112536708 A
(43)申请公布日 2021.03.23
(21)申请号 202011352233.X
(22)申请日 2020.11.27
(71)申请人 洪步庚
地址 350
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