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本发明提供一种研磨浆供应系统，其应用于制造半导体元件的化学机械研磨工艺，其包括:转动装置；研磨浆容器，所述研磨浆容器用于容纳研磨浆，所述研磨浆容器固定于所述转动装置，且能够在所述转动装置的带动下沿所述研磨浆容器在水平方向上的中心轴转动；所述研磨浆容器包括围绕所述中心轴的侧壁，所述侧壁设置有开口向下的出料口，所述研磨浆通过所述出料口至少在重力作用下输出所述研磨浆。本发明还提供一种化学机械研磨装置及一种研磨浆供应方法。本发明的研磨浆供应系统能够简化生产流程并节约成本。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112536723 A
(43)申请公布日
2021.03.23
(21)申请号 20191
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