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本申请涉及具有强化的近红外性质的透明导体材料及其形成方法。提供制造包含透明导电材料的制品的方法,其中,通过物理气相沉积在基材(例如,熔凝二氧化硅)上沉积透明导电材料(例如,氧化铟锡),然后在氮气气氛中,在高温(即,至少450℃)退火。所得到的制品包括的透明导电材料降低了低电阻率(或片电阻)与高近红外透射率之间的平衡。例如,由此获得的透明导电材料可具有1550nm处至少80%的透射率,同时具有小于或等于约5x10‑4欧姆‑cm的电阻率和至少约40x10‑4Ω‑1的哈克品质因子。还提供了通过在高温氮
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112582483 A
(43)申请公布日 2021.03.30
(21)申请号 202011049903.0
(22)申请日 2020.09.29
(30)优先权数据
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