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- 2023-06-02 发布于四川
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本发明提供了一种硅抛光组合物及其应用，所述硅抛光组合物以纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加有磷酸酯钾盐型阴离子表面活性剂和烷基糖苷型非离子表面活性剂作为助剂。本发明的硅抛光组合物中同时添加磷酸酯钾盐型阴离子表面活性剂和烷基糖苷型非离子表面活性剂作为循环稳定剂，可有效抑制循环抛光过程中硅溶胶磨料的团聚和结晶析出，减少划伤的产生，延长组合物的使用寿命，与现有技术相比，具有明显优势。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115785820 A
(43)申请公布日 2023.03.14
(21)申请号 202211460086.7
(22)申请日 2022.11.17
(71)申请人 万华化学集团电子材料有限公司
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