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- 2023-06-02 发布于四川
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本发明公开一种改善沉积薄膜厚度均匀性的方法及其掩膜板，掩膜板用于在静电卡盘吸附层表面制作图形，所述掩膜板的一侧板面从中心到边缘呈逐级降低的阶梯状，在所述掩膜板上设置有穿透其板面以供沉积形成图形的沉积通道，所述掩膜板的另一侧板面用于与静电卡盘吸附层表面贴合。本发明通过对掩膜板结构进行调整，采用多级阶梯的结构，可以有效改善卡盘吸附层表面薄膜的高度均匀性，高度均匀性可以降低至5％左右；同时，也提高了掩膜板的刚度，由于掩膜板刚度的增加，控制掩膜板高能量沉积过程中的变形量，可以提高薄膜图形尺寸精度。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115786844 A
(43)申请公布日 2023.03.14
(21)申请号 202111061398.6
(22)申请日 2021.09.10
(71)申请人 北京华卓精科科技股
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