半导体清洗设备中清洗液的温度控制方法及系统.pdfVIP

  • 24
  • 0
  • 约1.94万字
  • 约 15页
  • 2023-06-03 发布于四川
  • 举报

半导体清洗设备中清洗液的温度控制方法及系统.pdf

本申请提供一种半导体清洗设备中清洗液的温度控制系统及方法,该系统包括加热器和温度控制器;加热器用于对清洗液进行加热;温度控制器与加热器连接,用于:判断向半导体清洗设备的工艺腔室中输送清洗液的传输管路中是否有清洗液,以及判断加热器的温度是否超出预设范围;并在传输管路中具有清洗液,且加热器的温度没有超出预设范围时,控制加热器将清洗液的温度加热至设定值。应用本申请,可以对不同温度梯度的清洗液进行有效安全的温度控制,使半导体清洗设备中清洗液的温度控制系统能够满足高精度、高安全等级的要求。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112650323 A (43)申请公布日 2021.04.13 (21)申请号 202011565024.3 (22)申请日 2020.12.25 (71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档