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光刻过程是一种将所需图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的工艺。在光刻过程中，需要控制聚焦。公开了一种用于确定与衬底相关的性能参数的指纹的方法，例如在光刻过程期间要使用的聚焦值。确定参考衬底的性能参数的参考指纹。确定参考衬底的参考衬底参数。确定衬底(例如具有产品结构的衬底)的衬底参数。随后，基于参考指纹、参考衬底参数和衬底参数确定性能参数的指纹。然后可以使用指纹来控制光刻过程。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112631086 A
(43)申请公布日 2021.04.09
(21)申请号 202110018882.4 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任
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