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本申请公开了一种工业X射线系统成像方法和装置，涉及X射线系统成像技术领域，所述方法包括：加载工业X射线成像系统的物理参数和扫描参数；形成的精确光学路径，并计算给定角度下，射线源的边界与所有探测器单元边界的所处的射线方程；计算X射线光源与所有探测器单元在精确光学路径下与所有像素的相交体积权重，并用单位像素体积对相交权重做归一化处理，得到给定扫描位置所有像素的归一化权重函数；对原始扫描数据进行预校正处理；对预校正后的投影数据按水平通道方向进行卷积滤波处理，得到滤波后的投影数据；对滤波后的投影数据进行
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112649452 A
(43)申请公布日 2021.04.13
(21)申请号 202011495873.6
(22)申请日 2020.12.17
(71)申请人 苏州斯玛维科技有限公司
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