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本发明属于药物化学领域，具体涉及一种基于抗菌肽polybia‑MPI的Sar修饰的高稳定性抗菌多肽化合物，本发明提供了一种基于抗菌肽polybia‑MPI的Sar修饰的稳定性高、抗菌活性好、毒性低的抗菌多肽化合物[Sar2]‑MPI，其合成方法以及该抗菌多肽在制备抗菌药物中的应用，本发明通过更为系统的扫描和筛选方法，在更接近生理环境下，找到多肽序列中影响体内稳定性的关键位点，同时对替换后的类似物进行了稳定性、体内体外抗菌活性、毒副作用的筛选和作用机制研究，以获得稳定性和抗菌活性提高而毒性降低的新
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112625106 B
(45)授权公告日 2023.03.31
(21)申请号 202110043279.1 (51)Int.Cl.
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