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一种晶圆缓存装置和化学机械抛光系统.pdfVIP

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  • 2023-06-03 发布于四川
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一种晶圆缓存装置和化学机械抛光系统.pdf

    本发明公开了一种晶圆缓存装置和化学机械抛光系统，所述晶圆缓存装置包括支撑架和检测组件，所述支撑架用于水平支撑晶圆，所述检测组件设置于所述支撑架的外周侧；所述检测组件包括信号收发部和匹配设置的反射部，所述信号收发部输出的光信号朝向所述反射部发射，所述反射部将光信号反射至所述信号收发部；所述检测组件根据所述信号收发部的接收的光信号判定所述支撑架是否放置晶圆。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112652562 A (43)申请公布日 2021.04.13 (21)申请号 202011525151.0 (22)申请日 2020.12.22 (71)申请人 华海清科股份有限公司

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