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用于基板处理腔室的气体输入系统.pdfVIP

用于基板处理腔室的气体输入系统.pdf

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    基板处理系统包括处理腔室，所述处理腔室包括定位在所述处理腔室中的基板支撑件。所述基板处理系统包括阀系统，所述阀系统流体耦接到所述处理腔室，并且被配置成控制进入所述处理腔室中的气体的流量。所述阀系统包括主流动线路和第一气体源流动线路，所述第一气体源流动线路通过第一气体源阀流体耦接到所述主流动线路。所述阀系统包括第二气体源流动线路，所述第二气体源流动线路通过第二气体源阀流体耦接到所述主流动线路。所述第一气体源阀和所述第二气体源阀串联式定位在所述主流动线路内。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112640078 B (45)授权公告日 2022.07.01 (21)申请号 201980057950.9 (72)发明人 T ·乌拉维　T ·布里彻　

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