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本发明涉及一种改善了等离子体处理垂直度的等离子体处理装置,包括:腔室,其构成利用等离子体处理基板的区域;卡盘,其以在上部安放所述基板的方式位于所述腔室,且被施加向所述基板诱导所述等离子体的偏置电源;第一部分,其以安放基板的方式形成于所述卡盘的内侧;第二部分,其以低于所述第一部分的高度形成于所述卡盘的外侧;以及聚焦环,其覆盖所述第二部分,并以使所述第一部分露出的方式包围所述第一部分,所述第一部分包括:电介质部,其形成为宽度大于所述基板的宽度,以使所述基板与所述第二部分隔开,且与所述基板的下面相接。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112670151 B
(45)授权公告日 2022.07.08
(21)申请号 202010809687.9 (51)Int.Cl.
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