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一种光学材料清洗液的制备方法.pdfVIP

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  • 2023-06-04 发布于四川
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一种光学材料清洗液的制备方法.pdf

    本发明公开了一种光学材料清洗液的制备方法，所述制备方法如下：步骤一：原料准备：氢键破坏剂、络合剂、醇类、pH调节剂、去离子水、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂；步骤二：混合搅拌：在反应釜中加入去离子水，然后依次加入氢键破坏剂，络合剂，醇类、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂，并搅拌使其完全溶解，得到混合液；步骤三：调节PH值；本发明的有益效果是：抗寒剂具有良好的抗寒性能，清洗液中抗寒剂的加入，增加了光学材料表面的抗寒性能，避免光学材料在低温下结雾；防尘剂在光学材料形成防尘涂层，在防尘涂层中的氧化硅纳米

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116200230 A (43)申请公布日 2023.06.02 (21)申请号 202310248407.5 (22)申请日 2023.03.15 (71)申请人 南京睿扬光电技术

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