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- 2023-06-04 发布于四川
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本发明提供一种黑色矩阵的制备方法及显示基板，所述方法包括：在一阵列基板上设置对位标记；在所述对位标记背向所述阵列基板的表面或上方形成疏水区域，使得所述对位标记背向所述阵列基板的表面或上方疏水；在所述阵列基板表面涂布光阻；依次对所述光阻进行曝光、显影和烘烤，得到黑色矩阵，所述黑色矩阵的图形所在的区域与所述对位标记的图形所在的区域无重合区。本发明实施例能有效提高阵列基板中黑色矩阵的图形与前序工艺形成的图形的对位精度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112698555 A
(43)申请公布日 2021.04.23
(21)申请号 202011547069.8
(22)申请日 2020.12.24
(71)申请人 武汉华星光电半导体显示技术有限
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